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| Application | 반도체, 전자 초순수 공정수 |
| Parameter | Boron |
| Range | 0.01…100 ppb B |
| Limit of Detection (LOD) | 0.01 ppb B |
| Sample Pressure | 1.03...6.89 bar (15...100 psi) |
| Analysis Time | 3 or 6 minutes |
반도체
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Features
개선된 Boron Ultra 분석기 특장점
• 감도 향상: 검출한계(LOD) 10 ppt로 더욱 정밀한 분석 가능
• 확장된 측정 범위: 최대 100 ppb까지 측정 가능
• 샘플 압력 감소: 15 psi (기존 20 psi 대비 감소) – 설비 부담 경감
• 분석 시간 단축: 3분 또는 6분 – 더 나은 시간 분해능 제공
온라인 공정 최적화 솔루션
Sievers Boron Ultra 분석기는 UPW(초순수ghghgfdhgdhgrdh) 시스템의 품질을 유지하며 운영 비용을 절감하는 데 효과적인 제품입니다.
붕소 농도 상승을 실리카 방출 전에 감지하여 콜로이드 및 이온 형태의 실리카 유입을 예방하며, 혼상 이온교환수지(MB-IX) 수명 예측, EDI 공정 최적화, 오염 제어에 활용됩니다.
IRDS에서 제시한 반도체 UPW의 붕소 50 ppt 기준을 충족하며, 붕소 및 실리카 오염 제어를 지원합니다.
반도체 제조사와 협업해 설계된 이 분석기는 시설 관리자 및 UPW 공정 엔지니어를 위한 강력한 공정 제어 도구입니다.
붕소 모니터링은 기존 실리카 또는 이온 오염 감시보다 더욱 선제적인 제어 전략입니다.
Specification
| Limit of Quantification (LOQ) | 0.03 ppb B |
| Accuracy | ± 0.01 ppb B, <0.03 ppb B, ± 15%, ≥ 0.03 ppb B |
| Precision | SD ≤ 0.003 ppb B, ≤ 0.100 ppb B, RSD ≤ 3%, > 0.100 ppb B |
| Minimum Sample Resistivity | 15 MΩ–cm |
| Sample Temperature | 15°-40°C (59-104°F) |
| Sample Flow Rate | 50…400 mL/min |
| Analysis Modes | Online, Averaged, and Online Timed |
| Power Requirements | 100-240 VAC, 40 W, 50/60 Hz |
| Display | LED Backlit, 10.1-inch, 1280 x 800 Display with touchscreen |
| Dimensions | 54.2 H x 59.3 W x38.8 D cm (21.35 H x 23.35 W x 15.27 D in) |
| Weight | Empty: 21.75kg (48 lb); With Consumables: 23.1 kg (51 lb) |
